Produktuak

Nitrogenoz dopatutako nanokarbonozko film elektrodo bat aztertu dugu, magnetroi desorekatua (UBM) sputtering metodoaren bidez eratutako % 10,9 at baino nitrogeno kontzentrazio txikiagoa duena.Nitrogenoz dopatutako UBM sputtering nanokarbono-filmeko sp (3) edukia (N-UBM filma) apur bat handitzen da nitrogeno-kontzentrazioa handitzean.Nitrogenoa duen grafito antzeko lotura txikiagotu egiten da eta piridina antzeko lotura handitzen da nitrogeno-kontzentrazioa handitzean.N-UBM filmak gainazal oso leuna du, 0,1 eta 0,3 nm arteko batez besteko zimurtasuna duena, nitrogeno kontzentraziotik ia independentea dena.N-UBM film-elektrodoak potentzial leiho zabalagoa erakusten du (4,1 V) UBM-ko pelikula-elektrodo puru batek (3,9 V) baino, sp(3) edukia apur bat igo delako.Aktibitate elektrokatalitikoa nitrogeno-kontzentrazioa handitzen den heinean handitu egin zen, eta horrek iradokitzen du elektroaktibitatea maximoa dela nitrogeno-kontzentrazioa % 10,9 at ingurukoa denean, Fe(CN)6(4-) gailurraren bereizketarekin baieztatzen dena.N-UBM film-elektrodoan hidrogeno peroxidoaren (H2O2) murrizteko potentzialak 0,1 V inguru desplazatu ziren, eta H2O2ren gailurra lau aldiz handitu zen.